生产规格各种规格钛靶 钼靶 钨靶 镍靶 铌靶 锆靶 钽靶
溅射镀膜;蒸发镀膜;半导体;集成电路;平面显示器;信息存储;OLED;LED;LCD;PDP
靶材的主要性能要求:
纯度
纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中,对靶材的纯度要求也不尽相同。例如,随着微电子行业的迅速发展,硅片尺寸由6”, 8“发展到12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求,而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。